Tobias und Dennis Wauch in Toronto mit Podestplatz

Bei der Int. Track Challenge in Toronto belegten Dennis und Tobias Wauch den 2. Platz im Madison, hinter den Deutschen Siegern  Schweizer/Schweizer und vor Davies/Lamoureux aus Kanada.

Die gerade neu eröffnete 250 Meter Radrennbahn in Toronto war für das Brüderpaar zugleich ein wichtiger Wettkampf als Vorbereitung für den UIV-Cup in Berlin. Im UCI C1- Omnium belegte Tobias den tollen 6. und Dennis Wauch den  12. Gesamtrang. Im Scratch Bewerb erreichte Tobias Wauch ebenfalls den 6. Platz.

Ein sehr erfolgreicher Einstand der zwei Radprofis, welche in der Saison 2015 für das polnische Conti-Team Wibatech Fuji an den Start gehen.